刻蚀的目的在于去除硅片上不需要的材料，从而雕琢出精细的电路结构。在这一精细操作过程中，温度的波动都会如同“蝴蝶效应”般，干扰刻蚀速率的均匀性。当温度不稳定时，硅片不同部位在相同时间内所经历的刻蚀程度将参差不齐，有的地方刻蚀过度，有的地方刻蚀不足，直接破坏芯片的电路完整性，严重影响芯片性能。湿度方面，一旦出现不稳定状况，刻蚀环境中的水汽会与刻蚀气体发生复杂的化学反应，生成一些难以预料的杂质。这些杂质可能会附着在芯片表面，或是嵌入刚刚刻蚀形成的微观电路结构中，给芯片质量埋下深深的隐患，后续即便经过多道清洗工序，也难以彻底根除这些隐患带来的负面影响。针对高精密仪器使用区域，提供稳定环境，延长仪器设备的使用寿命。精密测量恒温恒湿均匀性
超精密激光外径测量仪，在精密制造领域里，是线缆、管材等产品外径测量环节中不可或缺的存在。其测量精度直接关乎产品质量。然而，环境因素对它的干扰不容小觑。一旦温度产生波动，仪器的光学系统便会因热胀冷缩发生热变形，致使原本激光聚焦出现偏差，光斑尺寸也随之改变，如此一来，根本无法精确测量产品外径。像在高精度线缆生产中，哪怕只是极其微小的温度变化，都可能致使产品外径公差超出标准范围。而在高湿度环境下，水汽对激光的散射作用大幅增强，返回的激光信号强度减弱，噪声却不断增大，测量系统难以准确识别产品边界，造成测量数据的重复性和准确性都严重变差 。山东恒温恒湿制冷单元内部采用高效隔音材质，进一步降低设备噪音，噪音<45dB。
在航空航天和新能源电子领域，众多零部件的制造与检测对环境的精密性要求极高，精密环控柜为这些关键环节提供了可靠保障。航空航天零部件多采用先进材料制造，其加工和检测过程需要严苛的环境条件。如航空发动机叶片的精密加工，0.05℃的温度波动都可能使机床的主轴、导轨等关键部件热变形，导致叶片加工精度不达标。精密环控柜的高精度温度控制，确保加工环境稳定，保障叶片加工质量。同时，其超高水准洁净度控制，防止尘埃颗粒对航空零部件的污染，提升产品可靠性。除此之外，一些需要高精密环境的领域，也离不开精密环控柜。
电子显微镜用于观察微观世界，其内部的电子束对环境要求极高。环境中的尘埃颗粒可能吸附在电子束路径上的部件表面，影响成像质量。精密环控柜的超高水准洁净度控制，将空气中尘埃过滤干净，为电子显微镜提供超洁净空间。同时，其具备的抗微震功能，能有效隔绝外界震动干扰，确保电子显微镜稳定成像，让科研人员清晰观察微观结构。对于光学显微镜，温度和湿度变化会影响镜片的光学性能。湿度不稳定可能导致镜片表面产生水汽凝结，降低光线透过率。精密环控柜通过温湿度控制，为光学显微镜提供稳定环境，保证其光学性能稳定，成像清晰。高精密温湿度控制设备内部湿度稳定性可达±0.5%@8h。
在 3D 打印行业蓬勃发展的当下，温湿度成为左右打印质量的关键因素。在打印过程中，一旦环境温度出现较大幅度的波动，用于成型的光敏树脂或热熔性材料便会受到直接冲击。材料的固化速率、流动性不再稳定，这会直接反映在打印模型上，导致模型出现层纹，严重时发生变形，甚至产生开裂等严重缺陷。而当湿度偏高，材料极易吸湿。在打印过程中，这些吸收的水分转化为气泡，悄然隐匿于模型内部或浮现于表面，极大地破坏模型的结构完整性，使其表面质量大打折扣，影响 3D 打印产品在工业设计、医疗模型等诸多领域的实际应用。在芯片、半导体、精密加工、精密测量等领域，利用其温湿度控制，保证生产环境的稳定。0.01℃恒温恒湿设计
在生物制药研发中，该设备能高效调控环境，助力药物成分稳定，保障实验结果可靠。精密测量恒温恒湿均匀性
光刻设备对温湿度的要求也极高，光源发出的光线需经过一系列复杂的光学系统聚焦到硅片表面特定区域，以实现对光刻胶的曝光，将设计好的电路图案印制上去。当环境温度出现极其微小的波动，哪怕只是零点几摄氏度的变化，光刻机内部的精密光学元件就会因热胀冷缩特性而产生细微的尺寸改变。这些光学元件包括镜片、反射镜等，它们的微小位移或形状变化，会使得光路发生偏差。原本校准、聚焦于硅片特定坐标的光线，就可能因为光路的改变而偏离预定的曝光位置，出现曝光位置的漂移。精密测量恒温恒湿均匀性
