四川超滤设备原理

1.反渗透设备停运维护由于企业经常连续生产工作，反渗透设备也不可避免的要经常停运维护，长时间或短时间停用都有必要采取维护措施，不正确的处理会使膜功能降低。短期保留适用于停运15ｄ以下的体系，可采用每1～3ｄ低压冲刷的方法来维护反渗透设备。因此在水温高于20℃时，每2ｄ或1ｄ低压冲刷一次，水温低于20℃时，能够每3ｄ低压冲刷一次，每次冲刷完后需封闭清水设备反渗透设备上一切进出口阀门。长时间停用维护适用于停运15ｄ以上的体系，这时有必要用维护液(杀菌剂)充入清水设备反渗透设备进行维护。常用异噻唑啉酮20ｍｇ/Ｌ、?杀菌剂配方为甲醛10、亚硫酸氢钠1。2. 另一种是将其处理到非饮用水的标准，主要用于不与人体直接接触的用水，如便器的冲洗，地面、汽车清洗。四川超滤设备原理

EDI超纯水设备清洗必要性不单单是电子行业超纯水设备使用城市自来水作为原水，就连其他很多工业上使用的EDI超纯水设备原水都通常来自城市管网自来水或者是地下水，没有通过预处理的系统进水很非常容易让超纯水设备内里累积污垢，来自原水的污垢如何除掉，成为环保人士热门研究话题。EDI超纯水设备清洗程序清洗程序1、浓水管线清洗及消毒清洗程序2、淡水管线清洗及消毒清洗及消毒模式优先清洗模式直通逆流(低及高pH值都可);再循环(氧化剂)可选清洗模式再循环,或直通,顺流(低及高pH值都可)重庆中水回用超滤设备厂家原水中悬浮颗粒的含量小于50mg/L时，也可加入凝聚剂后凝聚或过滤。

(3)酸洗，酸洗是消除沉淀的有效方法，水垢积到一定程度，就需要进行酸洗，酸洗周期是根据除盐率下降的具体情况而定，一般1-4周一次，一般采用盐酸,酸液浓度1-2%，不宜过高，若浓度大于3%，会使离子交换膜受损，酸洗一般采用循环酸洗，浓水,淡水和极水室一次酸洗的方法。酸洗时间一般1-2小时或酸洗到近处电渗析器的酸洗液pH值不变为止。酸洗后用清水冲洗到进出水的pH相等为止，对于硫酸钙沉淀，可先用10%浓度的碳酸钠溶液清洗后，再酸洗。(4)碱洗，酸洗不能取出有机沉淀物，对于这类污染层可以用碱性食盐水清洗，使有机物消除，碱洗液一般由9%NaCl(好用精盐)和NaOH组成，碱洗时间30-90分钟，结束后用清水冲洗到合格为止。碱洗可以利用酸洗系统进行，一般不另设装置。

当原水碳酸盐硬度较高，经加药处理仍会造成CaCO3在反渗透膜上沉降时，可采用软化或石灰处理。当其它难溶盐在RO系统中结垢析出时，应作加阻垢剂处理。 值得一提的是，钡和锶并不总是存在于原水分析中，然而，尽管它们浓度很低，但只要水中硫酸盐的含量大于0.01mg/L时也很容易结垢析出在膜表面上。而这些垢又较难清洗去除，所以应尽可能防止在膜表面上形成这些垢。 当原水硅酸盐含量较高时，可投加石灰、氧化镁（或白云粉）进行处理。当硅存在于RO给水中的浓度大于20mg/L时，必须作结垢倾向的评估。由于硅垢的清洗比较困难，故防止其在膜上结垢是十分必要的。2、装置新生产的超滤水为出电泳槽工件提供冲洗用水，可形成闭路循环水冲洗系统。

纯水设备系统分析与调整纯水设备系统的产水率主要依赖主要系统的回收率来保证:自清洗过滤器的回收率为99%,UF系统回收率为90%,一级RO系统回收率为75%,二级RO系统回收率为90%。但在实际的运行中,受设备状态和工艺用水需求的影响,系统消耗的水量要大于设计水量,回收率没有达到设计的要求。(1)自清洗过滤器过滤精度为100μm。设置自清洗过滤器的作用主要是为了保护UF系统的正常运行,将原水中大颗粒悬浮物、砂砾等对超滤膜表面造成机械划伤的杂质去除,设备设计的自耗水率低于过滤水流量的1%。比较大进水压力：0.3MPa 比较大跨膜压差：0.15MPa（建议运行透膜压力:0.04-0.08MPa）。北京一体化超滤设备

超滤装置主要是膜组件部分，通过膜分离技术将水中的胶体、细菌、杂质等过滤出来。四川超滤设备原理

水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，重金属（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷（约占灰分的20-50%）会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒（包括细菌）如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。

电子行业超纯水设备特点目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。 四川超滤设备原理