PCB产生的蚀刻废液中的铜离子含量约为10% ,既产生酸性蚀刻废液,也会产生碱性蚀刻废液,酸性蚀刻废液以CuCl,为主,碱性蚀刻废液以Cu(NH,)Cl,为主。处理工艺:将酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液除杂后直接进行反应制备碱式氯化铜Cu ( OH)- CuCl。但 PCB生产中含铜蚀刻废液以酸性蚀刻废液居多,碱性蚀刻废液偏少,酸性和碱性蚀刻废液比例约为9:1,而反应中酸碱蚀刻废液的比例约为1:1。5。因此碱性蚀刻废液不足,我们向酸性蚀刻废液中加氨水使其转化为碱性蚀刻废液,以此解决碱性蚀刻废液不足的问题。酸碱性蚀刻液回收利用的移动式集成装置,所述移动式集成装置包括集装箱本体。九江碱性蚀刻液回用及提铜工艺
碱性氯化铜蚀刻液:适用于图形电镀金属抗蚀层,如镀覆金、镍、锡铅合金,锡镍合金及锡的印制板的蚀刻。 蚀刻速率快,侧蚀小,溶铜能力高,蚀刻速率容易控制。蚀刻液可以连续再生循环使用,成本低。蚀刻过程中的主要化学反应:在氯化铜溶液中加入氨水,发生络合反应:CuCl2+4NH3 →Cu(NH3)4Cl2在蚀刻过程中,板面上的铜被[Cu(NH3)4]2+络离子氧化,其蚀刻反应如下:Cu(NH3)4Cl2+Cu →2Cu(NH3)2Cl所生成的[Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子,不具有蚀刻能力。在有过量NH3和Cl-的情况下,能很快地被空气中的O2所氧化,生成具有蚀刻能力的[Cu(NH3)4]2+络离子,其再生反应如下:2Cu(NH3)2Cl+2NH4Cl+2NH3+1/2 O2 →2Cu(NH3)4Cl2+H2O从上述反应可看出,每蚀刻1克分子铜需要消耗2克分子氨和2克分子氯化铵。因此,在蚀刻过程中,随着铜的溶解,应不断补加氨水和氯化铵。金华蚀刻液回用及提铜服务蚀刻速率:蚀刻速率慢会造成严重侧蚀。
常见酸性蚀刻废液电解处理的困扰酸性lu化铜蚀刻工艺为现时电路板行业中常用的蚀刻工艺,其蚀刻废液的主要成分为lu化铜、lu化亚铜、盐酸及其他lu化盐等,铜离子浓度通常为120g/L左右.目前业界对此蚀刻废液的处理方法为收集后统一交给危险化学废物回收公司进行处理,也有部分电路板生产厂家使用电解法自行处理.在现有电解回收工艺过程中,其阴极板上产生的金属铜可被回收利用,而阳极板上所析出的大量有毒lu气则几乎无法有效地被循环回用到蚀刻生产线上,只能作外排处理.无法真正实现循环再用的环保工艺要求.其次,为了在电解过程中使其电解液尽量能够吸收更多lu气,唯有光靠降低蚀刻液的氧化还原电位不惜蚀刻生产效率来实现目的,这种工艺方法是不可取的。
蚀刻过程中应注意的问题1。减少侧蚀和突沿,提高蚀刻系数 侧蚀产生突沿。通常印制板在蚀刻液中的时间越长,侧蚀越严重。侧蚀严重影响印制导线的精度,严重侧蚀将使制作精细导线成为不可能。当侧蚀和突沿降低时,蚀刻系数就升高,高的蚀刻系数表示有保持细导线的能力,使蚀刻后的导线接近原图尺寸。电镀蚀刻抗蚀剂无论是锡-铅合金,锡,锡-镍合金或镍,突沿过度都会造成导线短路。因为突沿容易断裂下来,在导线的两点之间形成电的桥接。铜碱性蚀刻液循环再生步骤:再生子液存储在再生子液储罐内。
一种碱性蚀刻液再生循环及铜回收的装置,其特征在于,包括萃取单元、反萃单元、电解单元和调配单元;蚀刻缸内产生碱性蚀刻废液并经管道溢流进入蚀刻废液收集槽,所述萃取单元与蚀刻废液收集槽与相连且降低碱性蚀刻废液中铜离子含量;所述反萃单元与萃取单元相连且将萃取单元携带的铜离子变为易电解回收铜;所述电解单元与反萃单元相连且回收铜;所述调配单元与萃取单元相连且将经萃取后的蚀刻废液变为可使用的蚀刻添加子液,且所述调配单元还与蚀刻缸相连。被反萃后的蚀刻液则需添加极少量的补充剂,变成子液循环使用。九江碱性蚀刻液回用及提铜工艺
蚀刻液容易再生与回收,从而减少污染。九江碱性蚀刻液回用及提铜工艺
蚀刻液再生实际上是印制电路板(PCB)蚀刻线上排出的蚀刻母液采用封闭式循环系统,经蚀刻液再生循环设备将其中的铜离子萃取出来再返回生产线的过程。在线路板的蚀刻过程中,蚀刻液中的铜离子浓度会逐渐升高而降低蚀刻效果,要使蚀刻液达到良好的蚀刻效果,就必须将蚀刻液中的铜离子(Cu2+)、硫酸根离子SO42l-)和PH值保持在一个合理稳定的范围内,要持续蚀刻液中上述各种成份的良好浓度,就需不断添加子液来取代已失去蚀刻能力的『废蚀刻液』即“母液”。而该系统则可将原本需要排放的母液即『废蚀刻液』再生成为新子液即『再生蚀刻液』,该系统现在主要采用的工艺是电解硫酸铜,主要流程是先用萃取剂萃取母液中的铜离子,富铜油相再用低浓度的硫酸铜溶液(即电解液)反萃,得到高浓度的硫酸铜溶液(即新电解液),然后电解出铜离子。而被反萃后的蚀刻液则需添加极少量的补充剂,变成子液循环使用。同时还回收氨洗水,将氨洗水再生后循环利用。九江碱性蚀刻液回用及提铜工艺
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