影响侧蚀的因素有很多,下面将概述几点﹕1、蚀刻方式﹕浸泡和鼓泡式蚀刻会造成较大的侧蚀,泼溅和喷淋式蚀刻的侧蚀较小,尤以喷淋蚀刻的效果较好。2、蚀刻液的种类﹕不同的蚀刻液,其化学组分不相同,蚀刻速率就不一样,蚀刻系数也不一样。例如﹕酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常为3,而碱性氯化铜蚀刻系数可达到4。3、蚀刻速率:蚀刻速率慢会造成严重侧蚀。提高蚀刻质量与加快蚀刻速率有很大的关系,蚀刻速度越快,基板在蚀刻中停留的时间越短,侧蚀量将越小,蚀刻出的图形会更清晰整齐。在印刷线路板(pcb)的制造过程中,需要采用蚀刻液去除pcb板上的除线路以外的铜。佛山蚀刻液回用及提铜设备
用一定数量的敞口式电解槽单元组成一个电化学处理系列,用阴离子膜把每个电解槽单元分隔成阳极区和阴极区两部分,阳极区用钛基涂覆贵金属氧化物的电极材料作为阳极,用钛的三维电极材料作阴极的电解槽单元构成电化学处理系列的前级段,用钛板或者铜板的二维电极材料作阴极的电解槽单元则构成电化学处理系列的后级段。从氯化物体系线路板蚀刻系统进入电化学处理系列的蚀刻液,通过调节槽电压,流量,阴极和阳极的面积比等电化学工艺参数,使得在阳极区发生的电化学反应只是一价铜离子氧化成二价铜离子的反应,在电化学处理系列的前级段阴极区发生的电化学反应是二价铜离子还原成一价铜离子的反应,而在后级段阴极区发生的电化学反应是一价铜离子还原成金属铜的反应,以二价铜计算,该处理工艺的法拉弟直流电效为94%,致密状的金属铜产品含铜大于99%,经电化学处理系列处理后的蚀刻液,降低了其铜离子的含量和提高了二价铜离子的比率,经混合后返回线路板蚀刻系统进行蚀铜操作。佛山蚀刻液回用及提铜设备蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量的特性。
蚀刻设备的维护:维护蚀刻设备的较关键因素就是要保证喷嘴的高清洁度及无阻塞物,使喷嘴能畅顺地喷射。阻塞物或结渣会使喷射时产生压力作用,冲击板面。而喷嘴不清洁,则会造成蚀刻不均匀而使整块电路板报废。明显地,设备的维护就是更换破损件和磨损件,因喷嘴同样存在着磨损的问题,所以更换时应包括喷嘴。此外,更为关键的问题是要保持蚀刻机没有结渣,因很多时结渣堆积过多会对蚀刻液的化学平衡产生影响。同样地,如果蚀刻液出现化学不平衡,结渣的情况就会愈加严重。蚀刻液突然出现大量结渣时,通常是一个信号,表示溶液的平衡出现了问题,这时应使用较强的盐酸作适当的清洁或对溶液进行补加。
蚀刻是一种利用化学强酸腐蚀、机械抛光或电化学电解对物体表面进行处理的技术。除了增强美感之外,它还增加了对象的附加值。从传统的金属加工到高科技半导体制造,都在蚀刻技术的应用范围之内。金属蚀刻是一种通过化学反应或物理冲击去除金属材料的技术。金属蚀刻技术可分为湿蚀刻和干蚀刻。金属蚀刻由一系列化学过程组成。不同的蚀刻剂对不同的金属材料具有不同的腐蚀特性和强度。金属蚀刻又称光化学蚀刻,是指在金属蚀刻过程中经过曝光、制版、显影,与化学溶液接触后,去除金属蚀刻区的保护膜,以达到溶解腐蚀、形成凸点、或挖空。早用于制造铜板、锌板等印刷凹凸板,普遍用于减轻仪表板的重量,或加工铭牌等薄型工件。经过技术和工艺设备的不断改进,蚀刻技术现已应用于航空、机械、化工、半导体制造工艺,进行电子薄件精密金属蚀刻产品的加工。酸性蚀刻液又可分为:单液型酸性蚀刻液和双液型酸性蚀刻液。
含铜蚀刻废液的处理一直是印刷线路板企业面临的较大问题,常用工艺是采用从含铜蚀刻废液中制备精细铜化合物的工艺,从中回收有价值的铜,但回收完铜以后的废水中仍含有大量氯离子,需要进行后续处理,才可以达标排放。常见的含铜蚀刻废液处理方法一般是采用电解法循环利用,或者通过萃取或反萃取方法将铜转化为硫酸铜从而回收其中的铜,或者通过将蚀刻废液制备成铜精细化工品来回收铜。酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液直接中和反应可以制备碱式氯化铜,若辅料只加入氨水,母液中的氯离子可转化为纯度较高的氯化铵,而氯化铵可通过较成熟的三效蒸发工艺进行回收。用耐碱性抗电镀材料做抗电镀保护层(电镀锡或锡/铅)时,使用的是碱性蚀刻液。吉安PCB蚀刻液回用及提铜报价
现有蚀刻液在蚀刻过程中,蚀刻的均一性很难把控,蚀刻偏差及蚀刻直线度等特性失去,影响产品质量。佛山蚀刻液回用及提铜设备
碱性蚀刻液再生循环技术实现步骤:所述电解单元包含电解槽和反萃剂循环槽,所述反萃槽与反萃剂循环槽相连,所述电解槽与反萃槽相连,且所述反萃剂循环槽的反萃剂输送出口与电解槽相连。其中,所述调配单元包括过滤器和调配槽,所述萃取槽与过滤器的入口相连,所述过滤器的出口与调配槽相连,且所述调配槽与蚀刻缸相连。其中,所述调配槽内设有再生剂和溶解装置,所述再生剂采用液氨,所述溶解装置采用微孔溶气装置。其中,所述调配槽内配有搅拌装置和动力输送设备,搅拌装置采用机械搅拌,且所述调配槽通过动力输送口连接蚀刻缸。其中,所述过滤器为微孔PP滤芯低压过滤器。佛山蚀刻液回用及提铜设备
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