九江酸性蚀刻液回用及提铜服务厂家电话

碱性蚀刻液再生循环技术实现步骤：所述电解单元包含电解槽和反萃剂循环槽，所述反萃槽与反萃剂循环槽相连，所述电解槽与反萃槽相连，且所述反萃剂循环槽的反萃剂输送出口与电解槽相连。其中，所述调配单元包括过滤器和调配槽，所述萃取槽与过滤器的入口相连，所述过滤器的出口与调配槽相连，且所述调配槽与蚀刻缸相连。其中，所述调配槽内设有再生剂和溶解装置，所述再生剂采用液氨，所述溶解装置采用微孔溶气装置。其中，所述调配槽内配有搅拌装置和动力输送设备，搅拌装置采用机械搅拌，且所述调配槽通过动力输送口连接蚀刻缸。其中，所述过滤器为微孔PP滤芯低压过滤器。根据蚀刻反应机理，随着铜的蚀刻就会形成一价铜离子。九江酸性蚀刻液回用及提铜服务厂家电话

蚀刻液再生循环系统：在电子线路版（PCB）蚀刻过程中，蚀刻液中的铜含量渐渐增加。蚀刻液要达到较佳的蚀刻效果，每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐（NH4CI）及氨水（NH3）。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度较佳水平，蚀刻用过后的（以下称[用后蚀刻液]）溶液需不断由添加的药剂所取缔。本系统将大量原本需要排放的用后蚀刻液再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需极少量的补充剂及氨水，补偿因运作时被带走而失去的部份。从而取代蚀刻子液，既可达到蚀刻工艺的要求，又可节省生产成本。定南碱性蚀刻液回用及提铜多少钱蚀刻废液属于危险液体废物，含有大量的铜、氯等污染成分。

碱性蚀刻液再生循环技术实现步骤：与现有技术相比，本技术提供的碱性蚀刻液再生循环及铜回收的装置，萃取单元降低蚀刻废液中铜离子含量以使可回用；反萃单元将萃取单元携带的铜离子变为易电解回收铜；电解单元直接回收可利用铜，有效解决阴极铜品位差的问题；调配单元将经萃取后的蚀刻废液变为可使用的蚀刻添加子液，该装置结合四个单元增加了再生液的稳定性，减少了废液的排放，延长了循环时间，且实现了碱性蚀刻工序的清洁生产。本技术具有设计合理、再生循环时间长、铜回收率高及废气污染少等特点。

蚀刻过程中应注意的问题：1.提高板子与板子之间蚀刻速率的一致性在连续的板子蚀刻中，蚀刻速率越一致，越能获得均匀蚀刻的板子。要达到这一要求，必须保证蚀刻液在蚀刻的全过程始终保持在较佳的蚀刻状态。这就要求选择容易再生和补偿，蚀刻速率容易控制的蚀刻液。选用能提供恒定的操作条件和对各种溶液参数能自动控制的工艺和设备。通过控制溶铜量，PH值，溶液的浓度，温度，溶液流量的均匀性(喷淋系统或喷嘴以及喷嘴的摆动)等来实现。2.高整个板子表面蚀刻速率的均匀性板子上下两面以及板面上各个部位的蚀刻均匀性是由板子表面受到蚀刻剂流量的均匀性决定的。蚀刻过程中，上下板面的蚀刻速率往往不一致。酸碱性蚀刻液回收利用的移动式集成装置,所述移动式集成装置包括集装箱本体。

用一定数量的敞口式电解槽单元组成一个电化学处理系列,用阴离子膜把每个电解槽单元分隔成阳极区和阴极区两部分,阳极区用钛基涂覆贵金属氧化物的电极材料作为阳极,用钛的三维电极材料作阴极的电解槽单元构成电化学处理系列的前级段,用钛板或者铜板的二维电极材料作阴极的电解槽单元则构成电化学处理系列的后级段。从氯化物体系线路板蚀刻系统进入电化学处理系列的蚀刻液,通过调节槽电压、流量、阴极和阳极的面积比等电化学工艺参数,使得在阳极区发生的电化学反应只是一价铜离子氧化成二价铜离子的反应,在电化学处理系列的前级段阴极区发生的电化学反应是二价铜离子还原成一价铜离子的反应,而在后级段阴极区发生的电化学反应是一价铜离子还原成金属铜的反应,以二价铜计算,该处理工艺的法拉弟直流电效为94%,致密状的金属铜产品含铜大于99%,经电化学处理系列处理后的蚀刻液,降低了其铜离子的含量和提高了二价铜离子的比率,经混合后返回线路板蚀刻系统进行蚀铜操作。蚀刻废液中的铜含量降低以后，经调整可以回到蚀刻线上回用。九江酸性蚀刻液回用及提铜服务厂家电话

蚀刻速度越快，板子在蚀刻液中停留的时间越短。九江酸性蚀刻液回用及提铜服务厂家电话

碱性氯化铜蚀刻液：适用于图形电镀金属抗蚀层，如镀覆金、镍、锡铅合金，锡镍合金及锡的印制板的蚀刻。 蚀刻速率快，侧蚀小，溶铜能力高，蚀刻速率容易控制。蚀刻液可以连续再生循环使用，成本低。蚀刻过程中的主要化学反应：在氯化铜溶液中加入氨水，发生络合反应：CuCl2＋4NH3 →Cu(NH3)4Cl2在蚀刻过程中，板面上的铜被[Cu(NH3)4]2+络离子氧化，其蚀刻反应如下：Cu(NH3)4Cl2＋Cu →2Cu(NH3)2Cl所生成的[Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子，不具有蚀刻能力。在有过量NH3和Cl-的情况下，能很快地被空气中的O2所氧化，生成具有蚀刻能力的[Cu(NH3)4]2+络离子，其再生反应如下：2Cu(NH3)2Cl＋2NH4Cl＋2NH3＋1/2 O2 →2Cu(NH3)4Cl2＋H2O从上述反应可看出，每蚀刻1克分子铜需要消耗2克分子氨和2克分子氯化铵。因此，在蚀刻过程中，随着铜的溶解，应不断补加氨水和氯化铵。九江酸性蚀刻液回用及提铜服务厂家电话

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