企业商机
蚀刻液回用及提铜基本参数
  • 品牌
  • 蚀刻液回用及提铜
  • 型号
  • 齐全
  • 尺寸
  • 齐全
  • 重量
  • 齐全
  • 产地
  • 深圳
  • 可售卖地
  • 齐全
  • 是否定制
  • 材质
  • 齐全
  • 配送方式
  • 齐全
蚀刻液回用及提铜企业商机

蚀刻液中的Cu2+的浓度、PH值、氯化铵浓度以及蚀刻液的温度对蚀刻速率均有影响。掌握这些因素的影响才能控制溶液,使之始终保持恒定的良好蚀刻状态,从而得到好的蚀刻质量。因为Cu2+是氧化剂,所以Cu2+的浓度是影响蚀刻速率的主要因素。研究铜浓度与蚀刻速率的关系表明:在0-11盎司/加仑时,蚀刻时间长;在11-16盎司/加仑时,蚀刻速率较低,且溶液控制困难;在18-22盎司/加仑时,蚀刻速率高且溶液稳定;在22-30盎司/加仑时,溶液不稳定,趋向于产生沉淀。蚀刻液容易再生与回收,从而减少污染。定南酸碱蚀刻液回用及提铜

蚀刻液一般分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液两种。酸性蚀刻液主要成分氯化铜、盐酸、氯化钠和氯化铵。它的机理是:酸性蚀刻液具有蚀刻速率易控制,蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量的特性;同时,它的溶铜量大;酸性蚀刻液也较容易再生与回收,从而减少污染。有研究表明,酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常为3,以硝酸为基础的蚀刻系统可以做到几乎没有侧蚀,达到蚀刻的线条侧壁接近垂直,其蚀刻效果非常好。结合以上特性,酸性蚀刻液一般用于多层印制板的内层电路图形的制作或微波印制板阴板法直接蚀刻图形的制作。定南酸碱蚀刻液回用及提铜碱性蚀刻液主要成分为氯化铜﹑氨水﹑氯化铵,补助成分为氯化钴、氯化铵或其它含硫化合物以改善特性。

蚀刻液再生实际上是印制电路板(PCB)蚀刻线上排出的蚀刻母液采用封闭式循环系统,经蚀刻液再生循环设备将其中的铜离子萃取出来再返回生产线的过程。在线路板的蚀刻过程中,蚀刻液中的铜离子浓度会逐渐升高而降低蚀刻效果,要使蚀刻液达到良好的蚀刻效果,就必须将蚀刻液中的铜离子(Cu2+)、硫酸根离子SO42l-)和PH值保持在一个合理稳定的范围内,要持续蚀刻液中上述各种成份的良好浓度,就需不断添加子液来取代已失去蚀刻能力的『废蚀刻液』即“母液”。而该系统则可将原本需要排放的母液即『废蚀刻液』再生成为新子液即『再生蚀刻液』,该系统现在主要采用的工艺是电解硫酸铜,主要流程是先用萃取剂萃取母液中的铜离子,富铜油相再用低浓度的硫酸铜溶液(即电解液)反萃,得到高浓度的硫酸铜溶液(即新电解液),然后电解出铜离子。而被反萃后的蚀刻液则需添加极少量的补充剂,变成子液循环使用。同时还回收氨洗水,将氨洗水再生后循环利用。

蚀刻液废水中含有大量的铜离子,对酸性蚀刻液废水末端处理时对废液需要采用电解处理将废液中的铜离子提出来,电解后得到的电清液直接中和排放,在对污泥进行处理时,需要重新配置酸性溶液倒入污泥中以及棕化液中,将其中的 铜离子释放出来,通过电解的方式提取出来,酸性电解液在配置这一过程中比较浪费水资源,在配置酸性溶液时也较为浪费原料。将电解后得到的电清液通入污泥稀释仓内,酸性电清液对污泥进行稀释,污泥内的铜离子可充分混入电清液内,避免对污泥电解处理时再次配置酸性溶液造成的原料浪费,在将稀释污泥时可将棕化液通入污泥内,同时对其进行稀释,稀释后的到的含有铜离子的废液重新通入电解罐内进行电解,电解后的电清液通入污泥内继续进行稀释,通过循环作用直至污泥内的铜离子含量排放达标。用耐酸性抗蚀材料做抗蚀保护层时,使用的是酸性蚀刻液。

蚀刻液电解提铜用钛阳极板在电解提铜中能高效地提高蚀刻液回收铜设备的回收量和效果,是一项专门为PCB行业的微蚀、蚀刻等工序而设计,使该工序成为清洁生产、节能减排,并大幅度降低生产成本。碱性蚀刻液提铜系统主要能实现生产药水的循环使用,节省生产物料成本,省去对废药水的贮存、转运、处理环节提高管理效率,基本达到高浓含铜废液的零排放符合国家对清洁生产、可持续发展的政策要求。设备还在生产药水循环使用的过程中将药水中所含的铜进行回收,还原成高纯度的电解铜,可直接售卖产生效益。蚀刻液一般分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液两种。定南酸碱蚀刻液回用及提铜

影响蚀刻速率的主要因素是溶液中Cl-、Cu+、Cu2+的含量及蚀刻液的温度等。定南酸碱蚀刻液回用及提铜

碱性氯化铜蚀刻液:适用于图形电镀金属抗蚀层,如镀覆金、镍、锡铅合金,锡镍合金及锡的印制板的蚀刻。 蚀刻速率快,侧蚀小,溶铜能力高,蚀刻速率容易控制。蚀刻液可以连续再生循环使用,成本低。蚀刻过程中的主要化学反应:在氯化铜溶液中加入氨水,发生络合反应:CuCl2+4NH3 →Cu(NH3)4Cl2在蚀刻过程中,板面上的铜被[Cu(NH3)4]2+络离子氧化,其蚀刻反应如下:Cu(NH3)4Cl2+Cu →2Cu(NH3)2Cl所生成的[Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子,不具有蚀刻能力。在有过量NH3和Cl-的情况下,能很快地被空气中的O2所氧化,生成具有蚀刻能力的[Cu(NH3)4]2+络离子,其再生反应如下:2Cu(NH3)2Cl+2NH4Cl+2NH3+1/2 O2 →2Cu(NH3)4Cl2+H2O从上述反应可看出,每蚀刻1克分子铜需要消耗2克分子氨和2克分子氯化铵。因此,在蚀刻过程中,随着铜的溶解,应不断补加氨水和氯化铵。定南酸碱蚀刻液回用及提铜

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蚀刻液回用及提铜产品展示
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