蚀刻液再生实际上是印制电路板(PCB)蚀刻线上排出的蚀刻母液采用封闭式循环系统,经蚀刻液再生循环设备将其中的铜离子萃取出来再返回生产线的过程。在线路板的蚀刻过程中,蚀刻液中的铜离子浓度会逐渐升高而降低蚀刻效果,要使蚀刻液达到良好的蚀刻效果,就必须将蚀刻液中的铜离子(Cu2+)、硫酸根离子SO42l-)和PH值保持在一个合理稳定的范围内,要持续蚀刻液中上述各种成份的良好浓度,就需不断添加子液来取代已失去蚀刻能力的『废蚀刻液』即“母液”。而该系统则可将原本需要排放的母液即『废蚀刻液』再生成为新子液即『再生蚀刻液』,该系统现在主要采用的工艺是电解硫酸铜,主要流程是先用萃取剂萃取母液中的铜离子,富铜油相再用低浓度的硫酸铜溶液(即电解液)反萃,得到高浓度的硫酸铜溶液(即新电解液),然后电解出铜离子。而被反萃后的蚀刻液则需添加极少量的补充剂,变成子液循环使用。同时还回收氨洗水,将氨洗水再生后循环利用。用耐酸性抗蚀材料做抗蚀保护层时,使用的是酸性蚀刻液。吉安酸性蚀刻液回用及提铜工艺哪家好
蚀刻液回收利用工艺,包括下列步骤:S1,碳酸钠溶液的制备:将碳酸钠固体溶解于一定质量的水中得到碳酸钠溶液,并将制备的碳酸钠溶液置于反应容器中,且碳酸钠溶液中碳酸钠与水的质量比为1:2。53。5,并将碳酸钠溶液的温度保持在3040℃;S2,酸性蚀刻液的滴加:向反应容器中滴加酸性蚀刻液,在滴加酸性蚀刻液的同时使用搅拌器对反应容器内的液体进行搅拌,并保持反应容器内的反应温度为3050℃,反应终点的pH值为7。5~8。5;S3,静置沉降:停止搅拌并静置得到碱式碳酸铜沉淀;S4,回收碱式碳酸铜:将沉淀在反应容器中的碱式碳酸铜取出,清洗并烘干,得到碱式碳酸铜产品。本发明能有效降低酸性蚀刻液废水中的铜离子浓度,且能实现铜资源的回收。吉安酸性蚀刻液回用及提铜工艺哪家好影响蚀刻速率的主要因素是溶液中Cl-、Cu+、Cu2+的含量及蚀刻液的温度等。
对于蚀刻液用法的理解,我们可以用个比较通俗的说法,那就是使用具有腐蚀性的一些化学材料对某种物品进行腐蚀,将不需要的部分腐蚀掉,从而将其雕刻成所需要的目标物品的过程。那这个具有腐蚀性的化学材料,就称为蚀刻液了。那专业的蚀刻液解释又是什么呢?蚀刻液是通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体,是一种铜版画雕刻用原料。从理论上讲,凡能氧化钢而生成可溶性铜盐的试剂,都可以用来蚀刻敷铜箔板,但是蚀刻液用途要权衡对抗蚀层的破坏情况、蚀刻速度,溶液再生及铜的回收、环境保护及经济效果等各方面的影响因素选择合适的试剂。
随着蚀刻的进行,蚀刻液中铜含量不断增加,比重逐渐升高,当蚀刻液中铜浓度达到一定高度时就要及时调整。在自动控制补加装置中,是利用比重控制器控制蚀刻液的比重。当比重升高时,自动排放比重过高的溶液,并添加新的补加液,使蚀刻液的比重调整到允许的范围。补加液要事先配制好,放入补加桶内,使补加桶的液面保持在一定的高度。专卖的蚀刻盐品种很多,其补加液的配制方法大同小异。下面只介绍一种:CP21蚀刻盐补加液的配制方法:蚀刻盐 255g/l PH值 9。8 氨水(26%) 450ml/l 比重 1。03、水 450ml/l。酸性蚀刻液主要成分氯化铜、盐酸、氯化钠和氯化铵。
蚀刻液提铜:PCB行业制作工序中产生大量微蚀液、蚀刻液、硝酸铜等含有不同浓度的铜等金属,回收价值高,且外排废水中也会有少量的铜重金属存在,如不能合理的进行环保处理,一方面造成资源的严重浪费,另一方面重金属排放后渗入至土壤及水源之中,即会对我们赖以生存的自然环境及自身的健康产生严重的污染和危害。近年来随着环保意识的增强,部门法规对于印制电路板工厂排放废水的各项指标限制日趋严谨,因此,印制电路板产业废水处理为达到铜离子的稳定达标排放标准,均以大量加药的手段来获得解决。但传统的加化学药剂,操作成本高,且造成大量铜污泥产生及排放废水导电度过高(溶解性盐类造成),导致废水回用难度加大或者根本无法回收使用的后续问题。蚀刻速率:蚀刻速率慢会造成严重侧蚀。吉安酸性蚀刻液回用及提铜工艺哪家好
铜蚀刻液适用于印制版铜的蚀刻,蚀刻速度快。吉安酸性蚀刻液回用及提铜工艺哪家好
通过蚀刻再生的化学反应可以看出:[Cu(NH3)2]1+的再生需要有过量的NH3和NH4Cl存在。如果溶液中缺乏NH4Cl,而使大量的[Cu(NH3)2]1+得不到再生,蚀刻速率就会降低,以至失去蚀刻能力。所以,氯化铵的含量对蚀刻速率影响很大。随着蚀刻的进行,要不断补加氯化铵。但是,溶液中Cl-含量过高会引起抗蚀层被浸蚀。一般蚀刻液中NH4Cl含量在150g/l左右。蚀刻液温度低于40℃,蚀刻速率很慢,而蚀刻速率过慢会增大侧蚀量,影响蚀刻质量。温度高于60℃,蚀刻速率明显增大。但NH3的挥发量也很大程度增加,导致污染环境并使蚀刻液中化学组份比例失调。故一般应控制在45℃~55℃为宜。吉安酸性蚀刻液回用及提铜工艺哪家好
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