高纯气体（HighPurityGases）气体工业名词，通常指利用现代提纯技术能达到的某个等级纯度的气体。氢气提纯方法主要有低温吸附法，低温液化法，金属氢化物氢净化；此外还有钯膜扩散法，中空纤维膜扩散法和变压吸附法等。氢是主要的工业原料，也是今后主要的二次能源之一。氢是主要的工业原料，也是重要的工业气体和特种气体，在石油化工、电子工业、冶金工业、食品加工、浮法玻璃、航空航天等方面有着应用。同时，氢也是一种理想的二次能源（二次能源是指要由一种初级能源如太阳能、煤炭等来制取的能源）。在一般情况下，氢容易与氧结合。这种特性使其成为天然的还原剂使用于防止出现氧化的生产中。在玻璃制造的高温加工过程及电子微芯片的制造中，在氮气保护气中加入氢以清理残余的氧。在石化工业中，需加氢通过去硫和氢化裂解来提炼原油。氢的另一个重要的用途是对人造黄油、食用油、洗发精、润滑剂、家庭清洁剂及其它产品中的脂肪氢化。由于氢的高燃料性，航天工业使用液氢作为燃料。氢气还能够通过传统的电解水法获得，但这种方法由于能耗过高，除已建成装置外，已少有新建装置。湖北国内高纯氢气
氢气在常温常压下为无色、无毒、易燃气体，分子量：2.0157，标准状况下气体密度为0.0899g/L。氢与空气混合能形成性混合物，在空气中极限为4.0%～75.0%，遇热源和明火有燃烧的危险。氢气是无毒气体，但当空气中氢气含量增加导致氧气含量低于18.5%时，有可能引起人体缺氧、窒息。使用氢气时，操作环境应保持通风，严禁泄漏，避免窒息或形成性混合空气。氢气是重要的工业原料，如生产合成氨和甲醇、提炼石油，还应用于半导体工业、精细化工和光电纤维工业等，氢是清洁的燃料。在实验室色谱分析中，氢气作为载气或燃烧气使用。氢气使用无缝钢瓶盛放，气瓶在运输、储存、使用时都应分类存放，禁止靠近明火和热源。氢气无缝钢瓶检验周期为3年，钢瓶比较高使用年限为30年，凡到期的气瓶必须送检方能继续使用，达到比较高使用年限后强制报废。高纯氢气直销价氢气主要用钢瓶、钢瓶组成的瓶组和氢气管束槽车运输。
目前生产的氢几乎完全来自化石燃料（灰色、黑色和棕色氢，分别来自天然气和煤炭），然而由于日益上涨的碳价格，尤其是在欧洲，所有行业都面临着越来越大的脱碳压力---尤其是石油和天然气行业。从一个角度来看，在炼油、制氢和其他工业用途中，从灰氢/黑氢/粽氢向蓝氢和绿氢的转型，可以确保对低碳氢的早期需求，帮助氢“生态系统”，即支持氢作为能源载体的价值链，并且扩大规模。从另一个角度来看，这些也都是之后将与能源用户争夺低碳氢的大型产业。
高纯氢气是一种无色、无嗅、无毒、易燃易爆的气体。密度比空气小的气体(在各种气体中，氢气的密度小。标准状况下，1升氢气的质量是0.0899克，比空气轻得多)。氢气常作为清洁的还原性气体用于实验室载气、石油精炼、浮法玻璃、电子、食品等行业。小批量氢气主要以13.5MPa压力贮存于高压钢瓶中运输，较大批量氢气可以用高压管式槽车运输，或者用现场制氢设备现场制取。超高纯氢：氢气纯度>99.9999%，氧(氩)含量<0.2ppm，氮含量<0.4ppm，一氧化碳含量<0.1ppm，二氧化碳含量<0.1ppm，甲烷含量<0.2ppm，水分含量<1.0ppm。电子工业是高纯氢气产品的大用户。
氢气在常温常压下为无色、无嗅、无毒、易燃性气体，氢气在自然界中存在的同位素有：氕气、氘气、氚气。在空气中的极限是4.0%-74.2%，引燃温度只有400℃，火焰颜色为蓝色。氢气是一种很难液化的气体，在1amt下，氢气在-252.87℃液化成液氢；-259.1℃时固化为固态氢。目前工业上氢气的制造主要有水电解制氢气、甲醇裂解制氢气、天然气裂解制氢气、氨分解制氢气等几种制造方式。氢的贮运有四种方式可供选择，即气态贮运、液态贮运、金属氢化物贮运和微球贮运。氢气主要用钢瓶、钢瓶组成的瓶组和氢气管束槽车运输。氢气是世界上已知的轻的气体，它的密度非常小，只有空气的1/14，即在标准大气压,0℃下，氢气的密度为0.0899g/L。所以氢气可作为飞艇的填充气体（由于氢气具有可燃性，安全性不高，飞艇现多用氦气填充）。灌好的氢气乳胶气球，往往过一夜就飞不起来了，这是因为氢气能钻过橡胶上人眼看不见的小细孔。站内制备的氢气在压缩、储存和加注前应进行净化和干燥。青海高纯氢气厂家电话
管束高纯氢气在自然界中存在的同位素有氕气、氘气、氚气。湖北国内高纯氢气
许多天然食用油具有很大度的不饱和性，经氢化处理后，所行产品可稳定贮存，并能抵抗细菌的生长，提高油的黏度。植物油加氢氢化所用的氢气，纯度要求都很高，一般需严格提纯后方可使用。食用油加氢的产品可加工成人造奶油和食用蛋白质等。非食用油加氢可得到生产肥皂和畜牧业饲料的原料。过程包括用氢饱和不饱和酸(油酸、亚油酸等)的甘油脂，将氢引入到液体脂肪或植物油的组成中。在一些电子材料的生长与衬底的制备、氧化工艺、外延工艺中以及化学气相淀积(CVD)技术中，均要采用氢气作为反应气、还原气或保护气。半导体集成电路生产对气体纯度要求极高，比如氧杂质的允许浓度为10-12等。微量杂质的“掺入”，将会改变半导体的表面特性，甚至使产品成品率降低或造成废品。湖北国内高纯氢气
